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1、首先，光刻機(jī)的透鏡，光源技術(shù)難度大，研發(fā)要求歷史和時(shí)間比較長(zhǎng)。其實(shí)光刻機(jī)的發(fā)展歷史非常悠久，從90年代開始，發(fā)達(dá)國(guó)家就已經(jīng)開始研究光刻機(jī)的相關(guān)技術(shù)。其中美國(guó)著名廠商asml負(fù)責(zé)研發(fā)，在硬件方面他們采用德國(guó)蔡司的透鏡。并且其他的相關(guān)硬件都來自于其他高科技國(guó)家。所以說光刻機(jī)技術(shù)不僅僅是一個(gè)國(guó)家就能夠研發(fā)出來的，它還需要全球不同的國(guó)家為其提供生產(chǎn)力和科技的支持。舉一個(gè)簡(jiǎn)單的例子說明，美國(guó)生產(chǎn)的7納米芯片，是利用光刻技術(shù)將數(shù)據(jù)集成到芯片上。并且在制作過程當(dāng)中要非常嚴(yán)格地掌控光的大小。這遠(yuǎn)比制作一個(gè)普通的相機(jī)要難，因?yàn)橄鄼C(jī)只需要控制光圈，而光刻機(jī)不僅僅是要控制光的大小，還要能夠利用光。

2、其次，光刻機(jī)的研發(fā)需要大量的資金支持，很多企業(yè)難以承擔(dān)高昂的研發(fā)費(fèi)用。美國(guó)等發(fā)達(dá)國(guó)家研究光刻機(jī)，幾乎每年都有超過90個(gè)億的資金作為研發(fā)費(fèi)用。到目前為止這些掌握光刻機(jī)技術(shù)的國(guó)家大約都花費(fèi)了約4000億元。并且目前光刻機(jī)市場(chǎng)的老大asml幾乎可以說是整個(gè)光刻機(jī)技術(shù)的壟斷者。他們每年投入的研發(fā)費(fèi)用，幾乎是某些世界500強(qiáng)企業(yè)的三個(gè)季度的收入。

3、最后，我國(guó)的光刻機(jī)技術(shù)剛起步，仍然面臨著許多難題需要攻克。從目前我國(guó)在相關(guān)行業(yè)發(fā)展歷史分析，只有上海微電子裝備和合肥芯碩半導(dǎo)體有限公司在研究光刻機(jī)方面取得了一定的進(jìn)步。