中文字幕亚洲欧美日韩在线不卡,亚洲欧美日产综合在线网性色,思思久久精品6一本打道,综合视频中文字幕

    <sub id="dxmnt"><ol id="dxmnt"></ol></sub>

      1. 半導(dǎo)體再次站上風(fēng)口,一文看懂行業(yè)現(xiàn)狀及賽道龍頭!

        更新時(shí)間:2022-08-11 17:32:14作者:未知

        半導(dǎo)體再次站上風(fēng)口,一文看懂行業(yè)現(xiàn)狀及賽道龍頭!

        在新能源賽道狂飆的背景下,A股半導(dǎo)體板塊再次站上了風(fēng)口。

        8月9日,美國總統(tǒng)在白宮簽署《芯片和科學(xué)法案》,為美國半導(dǎo)體研發(fā)、制造以及勞動(dòng)力發(fā)展提供527億美元,并提供超過2000億美元資金以刺激其他美國科技領(lǐng)域的創(chuàng)新和發(fā)展。

        美國法案將提升各國對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)重視程度,在國產(chǎn)替代是大勢所趨背景下,有望加速我國半導(dǎo)體自主可控進(jìn)展。

        此外,半導(dǎo)體先進(jìn)封測Chiplet概念成市場“新寵”,AMD、英特爾等巨頭入場布局。機(jī)構(gòu)認(rèn)為,Chiplet模式是在摩爾定律趨緩下的半導(dǎo)體工藝發(fā)展方向之一,被業(yè)界寄予厚望,或?qū)牧硪痪S度延續(xù)摩爾定律的“經(jīng)濟(jì)效益”。

        對(duì)國內(nèi)半導(dǎo)體而言,后摩爾時(shí)代,Chiplet給中國帶來了新的產(chǎn)業(yè)機(jī)會(huì),同時(shí)疊加國產(chǎn)替代加速,我國半導(dǎo)體將迎來第二波飛速發(fā)展。

        我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈競爭格局分析

        半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈分為“IC設(shè)計(jì)——晶圓制造加工——封裝測試”三個(gè)環(huán)節(jié),輔產(chǎn)業(yè)鏈還包括用于芯片設(shè)計(jì)的EDA軟件與IP核,半導(dǎo)體設(shè)備與半導(dǎo)體材料。其中,制造、設(shè)計(jì)、設(shè)備環(huán)節(jié)附加值較高,美韓日、中國臺(tái)灣、歐洲、中國大陸是全球半導(dǎo)體供應(yīng)鏈的主要參與方。

        設(shè)計(jì)是半導(dǎo)體領(lǐng)域技術(shù)含量最高的一塊。設(shè)計(jì)是利潤率最高的一塊,主要被美國企業(yè)主導(dǎo),代表性廠商有高通、英特爾。美國在全球芯片設(shè)計(jì)領(lǐng)域擁有約60%的市場占有率,居世界第一;中國臺(tái)灣地區(qū)市場占有率約15%,居全球第二;中國大陸則擁有12%的市場占有率,位居世界第三。

        半導(dǎo)體設(shè)計(jì)必備必備工具EDA,由楷登電子、新思科技和西門子EDA壟斷。華大九天是我國唯一能夠提供模擬電路設(shè)計(jì)全流程EDA工具系統(tǒng)的本土EDA企業(yè),占國內(nèi)EDA市場6%的市場份額。

        國產(chǎn)IP廠商迎來發(fā)展良機(jī)。IP核輔助芯片設(shè)計(jì),是一些芯片中具有獨(dú)立功能的電路模塊的成熟設(shè)計(jì),市場份額主要集中于ARM、Synopsys以及Cadence三家,CR3達(dá)到66.2%。受益國產(chǎn)替代趨勢以及AI和汽車智能化趨勢,國產(chǎn)IP廠商迎來發(fā)展良機(jī),在已上市公司中,國內(nèi)主要IP企業(yè)包括芯原股份、國芯科技、寒武紀(jì)等。

        芯片制造主要分為代工廠模式和IDM模式。主要由中國臺(tái)灣、韓國、歐美企業(yè)主導(dǎo),全球主要的代工廠包括臺(tái)積電、三星、中芯國際等,主要的IDM企業(yè)包括英特爾、意法半導(dǎo)體恩等。我國的芯片代工企業(yè)以中芯國際與華虹半導(dǎo)體為首,占全球15%產(chǎn)能,主要分布在成熟制程領(lǐng)域。在芯片制造領(lǐng)域,韓國三星和中國臺(tái)灣臺(tái)積電已經(jīng)突破3nm級(jí)芯片量產(chǎn)能力。

        我國封測領(lǐng)域已經(jīng)具備一定的競爭力。半導(dǎo)體封測環(huán)節(jié)技術(shù)難度稍低,是一個(gè)典型的技術(shù)密集型、資金密集型、勞動(dòng)力密集型的行業(yè)。我國在封測領(lǐng)域起步早、發(fā)展快,在全球已經(jīng)具備一定的競爭力。全球十大封測公司中國大陸企業(yè)長電科技、通富微電和華天科技已經(jīng)躋身前十。

        圖片

        材料設(shè)備是國內(nèi)卡脖子關(guān)鍵環(huán)節(jié)

        半導(dǎo)體材料可分為晶圓、電子氣體、光掩模、光刻膠、拋光材料、濺射靶材、濕電子化學(xué)品。其中,晶圓、電子特氣的價(jià)值較高。日本、美國、德國是全球半導(dǎo)體材料的主要供應(yīng)商,在晶圓、光掩模材料上日本占到了全球產(chǎn)值的50%以上。

        由于導(dǎo)體材料高端產(chǎn)品技術(shù)壁壘高,國內(nèi)企業(yè)長期研發(fā)投入和積累不足,我國半導(dǎo)體材料在國際分工中多處于中低端領(lǐng)域,高端產(chǎn)品市場主要被歐美日韓臺(tái)等少數(shù)國際大公司壟斷。國內(nèi)大部分產(chǎn)品自給率較低,基本不足30%,且大部分為技術(shù)壁壘較低的封裝材料。

        全球半導(dǎo)體硅片行業(yè)集中度高。2020年全球前五大硅片廠商合計(jì)市場份額達(dá)86.6%,日本信越化學(xué)市占率為27.53%,SUMCO市占率為21.51%。國內(nèi)方面,滬硅產(chǎn)業(yè)、立昂微、中環(huán)股份進(jìn)入全球十強(qiáng),其中滬硅產(chǎn)業(yè)市占率2.2%,在全球市場占比仍然較低。

        硅片的上游原料是高純石英砂,全球高純石英原料礦床分布于美國、澳大利亞、俄羅斯、中國等7個(gè)國家。礦源質(zhì)量最高和儲(chǔ)量最大的為美國Spruce Pine礦(花崗偉晶巖)。

        美國尤尼明是高純石英砂全球龍頭企業(yè),占據(jù)全球70%以上的高純石英砂市場。國內(nèi)石英股份在2009年取得重大技術(shù)突破,成為國內(nèi)唯一一家能夠規(guī)模量產(chǎn)高純石英砂的企業(yè)。

        半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化逐漸起航。半導(dǎo)體設(shè)備基本被國外巨頭壟斷,整體國產(chǎn)率仍較低,主要專用設(shè)備仍依賴進(jìn)口,多數(shù)半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化程度低于20%。

        目前,我國半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)已處于追趕階段,國產(chǎn)化逐漸起航,從0到1的過程基本完成。國內(nèi)北方華創(chuàng)、中微公司、至純科技,盛美上海等公司在各個(gè)工藝細(xì)分領(lǐng)域不斷突圍,部分設(shè)備已經(jīng)達(dá)到國際先進(jìn)水平并成功實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)替代,在集成電路領(lǐng)域主流生產(chǎn)線實(shí)現(xiàn)批量銷售。

        光刻設(shè)備被嚴(yán)重卡脖子。光刻機(jī)被荷蘭阿斯麥爾ASML、Nikon、Canon3家壟斷,ASML占據(jù)80%的市場份額,在高端光刻機(jī)(EUV)領(lǐng)域幾乎霸占全部市場。我國上海微電子SSX600系列步進(jìn)掃描投影光刻機(jī)可滿足IC前道制造90nm、110nm、280nm關(guān)鍵層和非關(guān)鍵層光刻工藝需求,但I(xiàn)C前道光刻機(jī)國產(chǎn)化進(jìn)度慢于IC后道封裝光刻機(jī)、LED制造的投影光刻機(jī)。

        光刻膠領(lǐng)域主要由日美韓公司壟斷,大陸企業(yè)市占率不足10%,我國南大光電的技術(shù)相對(duì)領(lǐng)先,已建成25噸生產(chǎn)線ArF光刻膠生產(chǎn)線,產(chǎn)品性能可以滿足90nm-14nm集成電路制造的要求。

        國產(chǎn)刻蝕機(jī)廠商迎來黃金發(fā)展期。刻蝕作為晶圓前道生產(chǎn)工藝中最重要的三類設(shè)備之一,價(jià)值量占比25%。全球刻蝕設(shè)備市場呈現(xiàn)壟斷格局,泛林半導(dǎo)體、東京電子和應(yīng)用材料公司占據(jù)主要市場份額,CR3達(dá)到90%。中國刻蝕機(jī)領(lǐng)域先進(jìn)企業(yè)中微公司和北方華創(chuàng)作為后起之秀,刻蝕設(shè)備國產(chǎn)化率已接近20%。國產(chǎn)12英寸高端刻蝕設(shè)備已運(yùn)用在國際知名客戶65nm 到5nm 等先進(jìn)的芯片生產(chǎn)線上,同時(shí)小于5nm 刻蝕設(shè)備也在積極開發(fā)過程中。