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（圖片來(lái)源：Dreamstime）

為了遏制中國(guó)發(fā)展芯片產(chǎn)業(yè)，美國(guó)開(kāi)始脅迫全球光刻機(jī)巨頭阿斯麥公司（ASML）對(duì)華禁售產(chǎn)品。

鈦媒體App 7月7日消息，據(jù)環(huán)球時(shí)報(bào)引述媒體報(bào)道稱(chēng)，美國(guó)官員正在游說(shuō)荷蘭當(dāng)局，在禁止向中國(guó)出售最先進(jìn)的極紫外線光刻機(jī)（EUV）基礎(chǔ)上，進(jìn)一步將禁售范圍擴(kuò)大到上一代技術(shù)深紫外線浸沒(méi)式（ArFi）DUV光刻機(jī)的出口。

報(bào)道稱(chēng)，由于無(wú)法獲得荷蘭政府的出口許可，ASML已經(jīng)無(wú)法向中國(guó)出口其最先進(jìn)、每臺(tái)售價(jià)約1.6億歐元的EUV光刻機(jī)。而美國(guó)此次針對(duì)的這些舊款DUV光刻機(jī)，可生產(chǎn)7nm及以上制程工藝芯片，是制造汽車(chē)、手機(jī)、計(jì)算機(jī)乃至機(jī)器人所需的某些非先進(jìn)芯片的最常用設(shè)備，在目前全球芯片短缺之際必不可少。如果美國(guó)脅迫成功，中芯國(guó)際和華虹半導(dǎo)體等中國(guó)芯片制造商可能會(huì)因此受到沉重打擊。

對(duì)此，7月6日例行記者會(huì)上，中國(guó)外交部發(fā)言人趙立堅(jiān)表示，這是美方濫用國(guó)家力量，倚仗技術(shù)霸權(quán)搞“脅迫外交”的又一例證，這也是典型的技術(shù)恐怖主義。在當(dāng)前全球化背景下，對(duì)別國(guó)搞技術(shù)封鎖、技術(shù)脫鉤，這只會(huì)讓其他國(guó)家更加警醒，在技術(shù)上一味依靠美國(guó)行不通，也會(huì)促使各國(guó)加快實(shí)現(xiàn)科技自主自立自強(qiáng)。

受此消息影響，ASML的美國(guó)存托憑證（ADR）跌幅高達(dá)8.3%，為2020年3月以來(lái)最大盤(pán)中跌幅。但與此同時(shí)，限制進(jìn)口光刻機(jī)利好國(guó)產(chǎn)替代，周三相關(guān)半導(dǎo)體設(shè)備股出現(xiàn)大漲，拓荊科技 (Piotech)、沈陽(yáng)芯源 (Kingsemi）漲幅超10%，中微公司、北方華創(chuàng)帶領(lǐng)滬深300大漲，科創(chuàng)50 (STAR50）指數(shù)則上漲了2.3%。

截止發(fā)稿前，由于市場(chǎng)傳出美國(guó)考慮對(duì)中國(guó)半導(dǎo)體征稅，7月7日開(kāi)盤(pán)，A股半導(dǎo)體板塊普跌，瑞芯微、大港股份、盛美上海跌5%，東微半導(dǎo)、易天股份、博通集成跌4%，斯達(dá)半導(dǎo)、中晶科技跌3%。

光刻機(jī)巨頭已成為半個(gè)美國(guó)公司

今年4月20日，荷蘭ASML公司發(fā)布財(cái)報(bào)，2022年第一季度光刻機(jī)凈銷(xiāo)售額達(dá)35.34億歐元。其中，中國(guó)大陸市場(chǎng)的營(yíng)收占比達(dá)到34%，超過(guò)12億歐元。

而這么亮眼的業(yè)績(jī)，主要?dú)w功于EUV光刻機(jī)的貢獻(xiàn)。公司CFO Roger Dassen此前接受采訪，當(dāng)被問(wèn)及美國(guó)半導(dǎo)體禁令對(duì)ASML業(yè)務(wù)有什么影響時(shí)，他表示，盡管美國(guó)對(duì)華禁售EUV光刻機(jī)，但ASML可以直接向中國(guó)出口DUV光刻機(jī)，無(wú)需美國(guó)的授權(quán)。

眾所周知，目前主流的光刻機(jī)主要有兩種：一種是極紫外線EUV光刻機(jī)，用于7nm及以下的芯片光刻；另外一種是DUV光刻機(jī)，稱(chēng)之為深紫外線光刻機(jī)，主要用于10－130nm光刻機(jī)，只有ASML能生產(chǎn)。

DUV光刻機(jī)又有兩大路線，其中一種就是ASML為代表的浸潤(rùn)式光刻機(jī)，以水為介質(zhì)，采用193nm波長(zhǎng)的光線，在水中折射后，變成132nm，而這種設(shè)備一次曝光可以生產(chǎn)45-28nm的芯片，價(jià)格比EUV便宜一半。

盡管DUV光刻機(jī)不是最先進(jìn)的，但在多重曝光的情況下，最高也能做到10nm制程，由于無(wú)需獲得美國(guó)出口許可證，相關(guān)產(chǎn)品一直正常給長(zhǎng)江存儲(chǔ)，上海華虹等廠商供貨。

所以，一旦美國(guó)推動(dòng)ASML禁止對(duì)中國(guó)企業(yè)出售DUV光刻機(jī)，意味著芯片代工廠的擴(kuò)產(chǎn)之下無(wú)法獲得設(shè)備，包括部分車(chē)規(guī)級(jí)芯片及消費(fèi)電子芯片，都將面臨受制于人的命運(yùn)。同時(shí)，這也意味著美國(guó)對(duì)中國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)的全面圍堵已經(jīng)展開(kāi)。

實(shí)際上，企業(yè)都是以盈利為目的。媒體分析稱(chēng)，如果ASML被禁止對(duì)華出口DUV，其收入可能會(huì)萎縮5%-10%。

那么，為什么ASML這樣一家光刻機(jī)巨頭企業(yè)，減少要屈服于美國(guó)的管制？根據(jù)中國(guó)科學(xué)院ICAC，背后主要有三個(gè)原因：

1、美國(guó)在DUV、EUV技術(shù)方面滲入ASML。1997年，ASML加入英特爾和美國(guó)政府牽頭成立的EUV LLC聯(lián)盟當(dāng)中。該聯(lián)盟匯聚了美國(guó)頂尖的研究資源和芯片巨頭，包括IBM、AMD、摩托羅拉等，集中數(shù)百位頂尖科學(xué)家，共同研究EUV光刻技術(shù)。隨后在2007年起，ASML陸續(xù)收購(gòu)美國(guó)Brion、Cymer、HMI等公司，增強(qiáng)了在光刻、光源、電子束檢測(cè)等方面的技術(shù)儲(chǔ)備，從而能夠開(kāi)展EUV技術(shù)攻克。

2、美國(guó)通過(guò)ASML的上市公司身份入股。隨著其在DUV時(shí)代取得成功，英特爾入股ASML疊加并購(gòu)加速，2012年，英特爾、三星、臺(tái)積電共同買(mǎi)入ASML 23%的股權(quán)，獲得了ASML EUV光刻機(jī)的優(yōu)先供貨權(quán)，成為了利益共同體。目前ASML的前三大股東均來(lái)自美國(guó)，合計(jì)掌握ASML近30%的股權(quán)，美國(guó)加速實(shí)現(xiàn)對(duì)ASML的資本和技術(shù)雙控制。

ASML光刻機(jī)上下游產(chǎn)業(yè)鏈（來(lái)源：方正證券）

3、ASML的EUV設(shè)備零部件受控于美國(guó)。截止2020年末，ASML的EUV中有90%零部件來(lái)自進(jìn)口，而且根據(jù)ASML加入EUV LLC的承諾，美國(guó)零部件需占比55%以上，并接受定期審查。

所以這就是美國(guó)為什么能讓荷蘭對(duì)華禁售DUV、EUV光刻機(jī)的主要原因——ASML的EUV光刻機(jī)的實(shí)際控制方是美國(guó)而非荷蘭。因此，ASML也被行業(yè)稱(chēng)為“半個(gè)美國(guó)公司”。

實(shí)際上，美國(guó)要求荷蘭ASML禁止出售光刻機(jī)給中國(guó)芯片制造企業(yè)，始于前任總統(tǒng)特朗普時(shí)期。

2018年開(kāi)始，美國(guó)就對(duì)荷蘭進(jìn)行游說(shuō)，并展開(kāi)強(qiáng)大攻勢(shì)，以阻撓荷蘭將芯片制造技術(shù)出售給中國(guó)。時(shí)任美國(guó)總統(tǒng)副國(guó)家安全事務(wù)助理還對(duì)荷蘭警告稱(chēng)，如果沒(méi)有美國(guó)的零部件，ASML的設(shè)備就無(wú)法運(yùn)轉(zhuǎn)，而美國(guó)白宮有權(quán)限制這些零部件向荷蘭出口。不久后，荷蘭就決定ASML的出口許可證不予續(xù)期，而之前計(jì)劃好向中芯國(guó)際出口的一臺(tái)價(jià)值1.5億美元的光刻機(jī)，至今也沒(méi)有發(fā)貨。

今年5月底至6月初，美國(guó)商務(wù)部副部長(zhǎng)唐·格雷夫斯在訪問(wèn)荷蘭和比利時(shí)期間討論供應(yīng)鏈問(wèn)題時(shí)提出禁止對(duì)中國(guó)企業(yè)銷(xiāo)售DUV光刻機(jī)的要求。其間，唐·格雷夫斯還到訪了ASML位于荷蘭總部并會(huì)見(jiàn)了公司CEO彼得·溫寧克。

不過(guò)，此前溫寧克曾表明過(guò)態(tài)度：反對(duì)禁止向中國(guó)出口DUV光刻機(jī)。

報(bào)道還稱(chēng)，美國(guó)也在努力向日本施壓，要求ASML對(duì)手——日本尼康等企業(yè)停止向中國(guó)芯片制造企業(yè)交付光刻技術(shù)。

針對(duì)上述消息，美國(guó)商務(wù)部與荷蘭外交部均表示拒絕發(fā)表任何評(píng)論，ASML和尼康兩家公司也都沒(méi)有做出實(shí)質(zhì)性的回應(yīng)。

根據(jù)ASML計(jì)劃，2022年該公司有望生產(chǎn)55臺(tái)EUV光刻設(shè)備，到2023年達(dá)到每年超過(guò)60臺(tái)，有望供應(yīng)給英特爾、三星、臺(tái)積電等企業(yè)。

國(guó)產(chǎn)替代影響幾何？

2021年，全球半導(dǎo)體行業(yè)總銷(xiāo)售額達(dá)5500億美元。其中，作為全球最大、發(fā)展最快的芯片半導(dǎo)體銷(xiāo)售市場(chǎng)，彭博數(shù)據(jù)顯示，過(guò)去4個(gè)季度，每個(gè)季度增長(zhǎng)最快的20家芯片產(chǎn)業(yè)公司中，平均有19家來(lái)自中國(guó)大陸。

在現(xiàn)代中美科技競(jìng)爭(zhēng)背景下，“國(guó)產(chǎn)替代”已成為中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的象征。

“中國(guó)半導(dǎo)體股背后的邏輯，一直是國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)口的設(shè)備和芯片，”杭州希言資產(chǎn)管理基金經(jīng)理石軍波接受媒體采訪時(shí)表示，即使技術(shù)可能不那么先進(jìn)，國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體企業(yè)依然在被美國(guó)迫使下發(fā)展，從而獲得更大的市場(chǎng)份額。

光刻機(jī)被稱(chēng)作“半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”，與航空發(fā)動(dòng)機(jī)并列，是人類(lèi)工業(yè)難度極限。而想要保證光刻機(jī)良好運(yùn)轉(zhuǎn)，每個(gè)環(huán)節(jié)的成功率都要高達(dá)99.99%，這是工程學(xué)上的巨大挑戰(zhàn)。

溫寧克曾表示，如果想打破ASML等國(guó)外企業(yè)制定的技術(shù)規(guī)則和壟斷優(yōu)勢(shì)，中國(guó)需要集體參與精密零部件的供應(yīng)開(kāi)發(fā)。他認(rèn)為中國(guó)目前不太可能獨(dú)立掌握頂級(jí)光刻技術(shù)。

對(duì)于國(guó)產(chǎn)光刻產(chǎn)業(yè)鏈，首先關(guān)注華為的投資布局。天眼查數(shù)據(jù)顯示，繼2021年6月，華為旗下的哈勃投資公司入股中科院微電子所控股、國(guó)內(nèi)第一的193nm ArF準(zhǔn)分子激光器光源系統(tǒng)企業(yè)“北京科益虹源”之后，今年4月，華為哈勃再度投資光源相關(guān)產(chǎn)業(yè)，入股光電模塊零部件公司“微源光子（深圳）科技”。

其次是企業(yè)的業(yè)績(jī)。7月5日，國(guó)內(nèi)刻蝕設(shè)備（光刻下游，溶解光刻膠部分金屬）廠商中微公司（688012.SH）發(fā)布2022年中報(bào)預(yù)告，公司預(yù)計(jì)今年二季度營(yíng)收19.7億元，同比增長(zhǎng)47.1%。其中新增訂單下，營(yíng)收同比增長(zhǎng)62%至30.6億元。中微公司董事長(zhǎng)尹志堯透露，公司研發(fā)的等離子刻蝕設(shè)備已經(jīng)進(jìn)入客戶5nm生產(chǎn)線。該公司預(yù)計(jì)上半年扣非歸母凈利潤(rùn)大增630%。

最后是未來(lái)國(guó)產(chǎn)光刻行業(yè)的發(fā)展評(píng)估。方正證券發(fā)布研報(bào)稱(chēng)，光刻機(jī)作為前道工藝七大設(shè)備之首（光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、鍍膜設(shè)備、量測(cè)設(shè)備、清洗機(jī)、離子注入機(jī)、其他設(shè)備），價(jià)值含量極大，技術(shù)要求極高，在制造設(shè)備投資額中單項(xiàng)占比高達(dá)23%。而目前，全球前道光刻機(jī)被ASML、尼康、佳能所壟斷，當(dāng)前實(shí)現(xiàn)光刻機(jī)的國(guó)產(chǎn)替代勢(shì)在必行，具有重大戰(zhàn)略意義。

“國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)應(yīng)從如下四個(gè)方面尋求突破，包括產(chǎn)業(yè)分工、科研投入、技術(shù)突破以及人才積累?！狈秸C券在報(bào)告中稱(chēng)，對(duì)于國(guó)內(nèi)關(guān)注產(chǎn)業(yè)鏈，主要關(guān)注以下兩部分：

一是關(guān)注光刻機(jī)核心組件，包括負(fù)責(zé)整體集成的上海微電子、負(fù)責(zé)光源系統(tǒng)的科益虹源，負(fù)責(zé)物鏡系統(tǒng)的國(guó)望光學(xué)，負(fù)責(zé)曝光光學(xué)系統(tǒng)的國(guó)科精密，負(fù)責(zé)雙工作臺(tái)的華卓精科，負(fù)責(zé)浸沒(méi)系統(tǒng)的啟爾機(jī)電等；二是關(guān)注光刻配套設(shè)施發(fā)展，包括光刻膠，光刻氣體，光掩模版，光刻機(jī)缺陷檢測(cè)設(shè)備，涂膠顯影設(shè)備等。

（本文首發(fā)鈦媒體App，作者｜林志佳）